如果说章忠谋缔造了台急电的前二十年，宁本坚就为台急电的后二十年，挣下了巨大的家当。
宁本坚一九四二年出生于越南，华夏宝岛人，祖籍岭南潮汕。
宁本坚一九七零年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士学位，二零零八年当选美国国家工程学院院士。在加入台积电之前，林本坚在IBM从事成像技术的研发长达二十二年，是当时世界无二的顶级微影专家。
二零零零年，林本坚在当时台急电研发长蒋上义的邀请下，加入了台急电，开启了真正“彪悍的人生”。
在IBM最后几年，宁本坚其实已经看到了傲慢的IBM，在微影领域的大厦将倾。他希望IBM能够给予他，当时微影部门所研发的X光光刻技术十分之一的经费，用来“做点东西”，然而IBM因为其华人的身份，并不打算买账。
后来宁本坚回忆说：“我判断到65纳米（干式光刻）阶段时，让我再往前看三代的话，我就已经看不到了。”
于是在众多人陷入X光光刻技术无法自拔的时候，宁本坚义无反顾地投入了，浸润式光刻技术的研究中。
终于在二零零二年，已经加入台急电的他，研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术。
也就是在二零零二年，冥冥之中宣告了过往干式光刻机的死刑。
浸润式光刻技术让摩尔定律继续延伸，后来台急电也因此领先竞争对手超过5年。
然而任何一项颠覆式新技术的出现，总会受到来自于传统势力巨大的阻力。
宁本坚的浸润式光刻，几乎被尼糖、加能、IBM等所有巨头封杀，尼糖甚至向台急电施压，要求雪藏宁本坚。
巨头的陨落，总是如出一辙。当年柯达最早生产出来了数码照相机，但是柯达却因为恐惧数码相机威胁到自己的胶片业务，做出决定——一定要藏好，不能让别人知道。
尼糖的智商，在巨大的现有经济利益前消耗殆尽。
一场赌局即将开始。
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